HMDS真空烘箱的使用注意事项

工作过程为：

脱水烘烤：升温至约 100–160℃，配合抽真空和氮气循环，去除基材表面吸附水。

HMDS气相反应：液态 HMDS 汽化后进入腔体，与表面羟基反应生成疏水的三甲基硅氧烷基团，并释放氨气。

排气吹扫：再次抽真空并用氮气吹扫，排出残余HMDS蒸汽和副产物，避免污染后续涂胶。

HMDS真空烘箱的使用注意事项：

1、先脱水，再HMDS：表面水没去干净，附着力提升会明显变差。

2、HMDS 化学品风险：有刺激性、腐蚀性，遇水释放氨气；严禁皮肤、眼睛接触；设备运行严禁开门；药剂补充需防护，在通风橱操作。

3、处理后的基片不宜长时间暴露在潮湿环境中，应尽快涂胶。

4、腔体、密封圈、HMDS管路要定期检查，防止溶胀、老化和泄漏。

5、真空泵油需定期更换，冷凝废液按危废处理。

6、载具宜用耐高温、低放气材料。